Antimon Pulver / Antimon powder

Antimon Powder

Hochreines Antimonpulver mit möglichst geringen durchschnittlichen Korngrößen ermöglicht die Herstellung gepresster und gebundener Sputtertargets sowie für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD). Verfahren, einschließlich thermischer und Elektronenstrahlverdampfung (E-Beam), organischer Niedertemperaturverdampfung, Atomlagenabscheidung (ALD), metallorganischer und chemischer Gasphasenabscheidung (MOCVD). Pulver eignen sich auch für alle Anwendungen, bei denen große Oberflächen erwünscht sind, z. B. für die Wasseraufbereitung sowie für Brennstoffzellen- und Solaranwendungen. Nanopartikel produzieren sehr hohe Oberflächen. Die Standardpulverteilchengrößen sollten im Durchschnitt im Bereich von – 325 Mesh, – 100 Mesh, 10-50 Mikron und Submikron (<1 Mikron) liegen. Antimon wird auch als Stab, Barren, Stücke, Pellets, Scheiben, Granulate, Draht und in zusammengesetzten Formen, wie Oxid hergestellt.

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